HITACHI 日立 CM-N4000導入導出美容儀

使用方法:
1.溫熱清潔模式——離子匯出毛孔的髒汙。
※配合無油份化妝水及化妝棉,深層清潔毛孔,匯出油脂、污垢。
使用時間:3分鐘。使用方法:與化妝棉及化妝水一同使用。
※將無油份保濕型化妝水塗於臉上,再用機身前面的溫熱導頭輕輕按摩。
2.溫熱保濕模式——細緻的微振盪和通過專用的脈衝信號,配合保濕化妝水,就可以使保濕成分完全滲透進肌膚。
使用時間:3分鐘。使用方法:將化妝水塗於臉上,再用溫熱導頭輕輕按摩。
3.溫熱面膜模式——漸進的電極輕微震動,模仿面膜和乳液的效果。
使用時間:3分鐘。使用方法:將乳液或面膜(水洗面膜)塗於臉上,再用溫熱導頭輕輕按摩。
 4.冷卻模式——冷卻導頭在機身的背面,約10秒製冷,可瞬間收緊臉頰、鼻子和額頭毛孔。



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特點:
● 窩形設計導頭比上一代 N3000 深 1.7 倍,可提高角質層滲透力;
● 水力高 1.3倍,使用時更能貼近左右鼻翼位、眼睛與頭部的邊緣位置!淡化因乾燥而生的乾紋,保持時刻水潤;
● 鈦金屬導頭防止敏感,珍珠白設計更美觀;
● 温热效果的作用下,能打开毛孔,通过导出清洁功能,使毛孔里面的脏东西吸出,从而使下一步保湿效果更显著(清洁效果比N3000更显著);
● 正離子—導出深層污垢,利用異性相吸的特性,有效軟化並吸附大部分表層污垢,深入清潔毛孔,達到深層潔淨效果。亦有減少肌膚出現色斑、提早老化及收細毛孔之功效。
● 負離子—導入保濕營養:皮膚乾燥是形成皺紋的原因,角質皮膚表面變硬,乾燥,會使皮膚喪失彈性。離子技術能更有效為肌膚保濕,長遠減少皺紋形成。而日常護膚時所塗抹的營養精華只到達表皮角皮層,深層細胞並不能獲得滋養。負離副程式將護膚品導入深層肌膚,令護膚品與深層皮膚內的細胞結合。
● 每次充電可使用約 7 次

使用時間:1分50秒。使用方法:使用機身背面的冷卻導頭輕輕按摩面部。

 

 

 

注意事項:
1、使用過程中手指需接觸到背面的金屬面板,N4000才會運行。
2、清洁模式中,切勿使用卸妆水、矿泉水、纯水或着哩乳液状产品
3、機身不防水,請勿直接放到水中清洗。
4、使用後,用紙巾擦拭導頭,請勿水洗,不要放在浴室等潮濕地方。
5、避免與其他金屬接觸。
6、使用頻率根據個人需要,可每天一次至每週一次,每天不超過一次,每個步驟每天使用不超過一次,請按說明書方法使用
7、皮膚過敏期間請勿使用。
8、孕期、經期、面部整容、牙齒/皮下有金屬植入,心臟病患者,對電流敏感人群,極度皮膚敏感者不建議使用。

Code:05-620

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